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ASML光刻机的作业原理及关键技术解析
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ASML光刻机的作业原理及关键技术解析

时间: 2024-01-09 04:16:04 |   作者: 制粒机设备

制粒机设备

  的——首先是激光器发光,通过纠正、能量控制器、光束成型设备等之后进入光掩膜台,上面放的就规划公

  ,咱们称之为微影制程,原理是将高能雷射光穿过光罩(reticle),将光罩上的电路图形透过聚光镜(projectionlens),将印象缩小

  制作难度有多大? /

  的开展状况 /

  ,半导体或遭断链危机,摩尔定律将中止,人类也就无法规划、制作和封装硅芯片。放眼全球,一家叫做


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